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好消息!中科院正式确认,芯片设计突破2nm,但光刻机才是关键

重磅好消息传来,中科院攻克芯片,2nm芯片突破瓶颈,荣获全球第一。

好消息!中科院正式确认,芯片设计突破2nm,但光刻机才是关键

中国科学院

美国修改了出口管制规定,将华为列入了“实体清单”后,一时之间“中国芯”成了一股热流,美国意图通过阻断芯片的供应来扼制住华为,扼制中国科技的发展,众所周知芯片设备在国内还是比较先进的,我国在对芯片的研发上还需要突破。

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5G

自力更生科技兴国才是发展之道,华为5G技术的攻克,让我们中国走在了前沿,这让美国大佬非常不悦,让一直处于先进地位的美国受到了挫败感开始对华为发起了攻击。

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中国芯片

所有有使用美国技术和设备的外国公司都不能像华为供应芯片,华为面临这无芯可以的局势,就在这时我们中国自己研发芯片的声音就渐渐多了起来,从事生产芯片制造的我们国内有台积电、联发科、中芯国际,后面oppo公司也开始走向了自研芯片品牌。因为目前我们只有自给自足才能够扭转中国芯片受制于人的局面。

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芯片

就在我们在自己研制芯片得不到进展,国外的芯片被断供的困局中,中科院传来了一则振奋人心的消息:在中科院众多院士的不懈努力下,我国自主研发的芯片技术在关键技术上有了重大突破,芯片设计突破2nm。对于芯片的研发我们都习惯把关注点放在了中芯国际、台积电等企业,中科院却给我们带来前所未有的惊喜。

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中国科学院

中科院在芯片的研发上能够取得如此巨大的突破,对于我们国家自己研发芯片领域来说是一个振奋人心的消息。台积电目前也只能5nm工艺制程生产,中芯国际也只能14nm的制程工艺,中科院突然发力,突破2nm技术这给我们的中国科技带来春天。

虽然我们在芯片突破了2nm技术,但是芯片能够得到量产还有最大的因素那就是光刻机设备。有人将芯片比作“心脏”,芯片在智能设备上的影响是极大的,用“心脏”来形容它在设备中的作用一点也不为过,但是光刻机对于芯片来说确实极其重要的。

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光刻机

目前能够生产高端光刻机的也只有荷兰和日本了,全球有顶尖的光刻机技术被荷兰ASML垄断,早在之前我国就有向国外购买光刻机,但是美国百般制裁之下到目前为止该光刻机还没到货。

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光刻机

近日,荷兰ASML推出了一种全新的半导体技术第一代HMI多光束检测机并决定加大对华投资之后,同天上海微电子技术再次获得突破,成功研发出22nm的光刻机。这一连利好的消息对芯片的再次突破都有了新的突破,这一切都来得如此之快。

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中国芯片

芯片和光刻机技术都是极难攻克的难题,但是未战先怯并不是我们中国的作风。

有这样一段话:面向世界科技前沿,面向国家重大需求,面向国民经济主战场,率先实现科学技术跨越发展,率先建成国家创新人才高地,率先建成国家高水平科技智库,率先建设国际一流科研机构,这个中国科学院的办院方针,其中“率先”两个字用得特别的频繁,我们科学技术的发展就是要快,这样我们才不会处于被动的情况下,我们依然相信只有把技术掌握在自己的手中,只有走在了科技的前沿,我们在国际的处境才能够屹立不倒。

中科院在芯片设计上取得了突破性的进展,芯片设计突破了2nm的大好消息,助力了中国芯片的发展,那么量产芯片的重要组成部分光刻机我们还需继续努力。

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